PLUTO-30 等離子清洗機(jī)/等離子表面處理系統(tǒng)

中小型 量產(chǎn)級(jí) 多功能

Pluto30等離子清洗機(jī)是專為研發(fā)而設(shè)計(jì)的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個(gè)過程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。Pluto 30的真空腔可支持多達(dá)7個(gè)可調(diào)節(jié)樣品架，以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設(shè)置，可配置成RIE和PECVD模式，從而擴(kuò)大了該系統(tǒng)的應(yīng)用范圍，提供給用戶*的靈活性。

Pluto30參數(shù)
腔體	腔體尺寸	300W x 280H x 366Dmm
	容量	30L
	電極數(shù)量	多達(dá)7層
電極	電極間隙	48mm
	功率電極尺寸	226W x 210D mm
	接地電極尺寸	260W x 210D mm
射頻系統(tǒng)	射頻功率和頻率	300W/13.56MHz
氣體控制	MFC控制器	標(biāo)配1個(gè)MFC，可選配4個(gè)MFC控制器
系統(tǒng)控制	7寸工業(yè)觸控屏	全數(shù)字控制，實(shí)時(shí)顯示工作狀況，可設(shè)定操作權(quán)限和各種報(bào)警值，可儲(chǔ)存工藝方案
真空泵系統(tǒng)	油泵	32m3/h
	功率	220V/10A，50Hz，單相，3線
尺寸	外形尺寸	706W x 804D x 735H mm
特別裝置 需求	工藝氣體	0.25英寸. 氣管快接.適用于 15-20psig;
	凈化氣	0.25英寸. 氣管快接. 適用于10-100psig
	CDA	0.25英寸. 氣管快接. 適用于60-90psig
	排氣接口	KF40
可選項(xiàng)	液體前驅(qū)體輸送系統(tǒng)
	500W/13.56MHz射頻系統(tǒng)
	37m3/h 干泵
	排氣洗滌器
	油霧消除器

特征及優(yōu)勢(shì)

氣體輸送系統(tǒng)，提供氣體分配均勻性和靈活的氣體分配方法

不同工藝模式（RIE、下游等離子體等）的柔性電極配置

的射頻系統(tǒng)提供*的工藝重復(fù)性和處理效率

全自動(dòng)處理能力

圖形用戶界面支持配方編輯器、配方驅(qū)動(dòng)流程并提供實(shí)時(shí)流程信息

臺(tái)式設(shè)計(jì)需要較小的占地面積

典型應(yīng)用

表面活化

提高表面能量以提高材料粘合性：預(yù)壓模粘合；預(yù)焊線粘合

增強(qiáng)表面膠體流動(dòng)性：預(yù)成型；預(yù)倒裝芯片下溢

表面粗糙度和蝕刻

降低表面應(yīng)力，改善表面粘結(jié)性

灰化和表面清潔

Plasma等離子蝕刻（配備RIE配置)

電介質(zhì)/III-IV材料

納米涂層（配備液體前體輸送裝置）

防腐納米涂層：醫(yī)療器械，醫(yī)療植入物

耐水納米涂層：印刷電路板表面處理