UV臭氧清洗改質(zhì)機LXY-PL110X16

價格
電議

型號
LXY-PL110X16

品牌

所在地
廣東省 深圳市

更新時間
2023-12-21 05:46:02

瀏覽次數(shù)


    UV臭氧清洗改質(zhì)機LXY-PL110X16
    UV臭氧清洗改質(zhì)機LXY-PL110X16
    詳細介紹
    多用UV/O3清洗/改質(zhì)機Multi-purpose UV/O3 cleaning/modification
    清除玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件等表面有機污染, 適合生產(chǎn)過程流水線批量作業(yè)。
    Clear glass/plastic/l/ceramic/silicon/electronic devices, etc, organic
    contamination on the surface is suitable for batch production assembly line.
    型號Model: LXY-PL110X16
    應用Objects: 玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件
    尺寸Dimensions 1200W*2200D*1350H(mm)
    電源Power supply 200V AC 60Hz
    功率Power consumption 2200W
    照射面積Irrad. area Max. 565*1100(mm)
    UV能量UV intensity 18-25mW/cm2(Distance 10mm)
    燈功率Total lamp wat. 1350W
    燈型號及燈數(shù)量Lamp model SUV110UH x 10~16pcs
    and Number of lamps
    紫外光UV清洗原理

    紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質(zhì)。經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度。

    其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量,高于大多數(shù)有機物的結合能量。由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力,并且可以在吸收185nm波長后分解成離子,流離態(tài)原子,受激分子和中子等,這就是光敏作用??諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后,會產(chǎn)生臭氧和氧氣,臭氧對254nm波長具有很強的吸收性,臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性,可以將碳氫化合鍵切斷,生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體,從被照射物表面飄逸出,清除物體表面的污染物。

     

    紫外線UV光清洗技術的應用范圍:

    1.各種材料(ITO玻璃,光學玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理;

    2.清除石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂

    3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成;

    4.高真空密封技術和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗

    5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面的粘合力;

    6。印制電路板生產(chǎn)中,對銅底板,印刷底板進行光清洗和改質(zhì),在導線焊接前進行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板,當線距達到亞微米級時,光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。

    7。大規(guī)模集成電路的密度越來越高,晶格的微細化越來越密,要求表面的潔凈度越來越高,光清洗可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度,而且對芯片表面不會造成損傷。  

    8。在半導體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生

    9。在光盤的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準備,可以提高光盤的質(zhì)量。

    10。磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷,以及提高金屬絲的連接強度,光清洗后效果好。

    11。石英晶體振蕩器生產(chǎn)中,除去晶體檢測后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發(fā)沉積前,進行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。

    12。在IC卡表面插裝ROM前,經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。

    13。彩色濾光片生產(chǎn)中,光清洗后能洗凈表面的有機污染物。

    14。敷銅箔層壓板生產(chǎn)中,經(jīng)過光照改質(zhì),不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層,產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高

    15。光學玻璃經(jīng)過紫外光清洗后,鍍膜質(zhì)量更好。

    16。樹脂透鏡光照后,能加強與防反射板的粘貼性。





    以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,儀器儀表交易網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
    溫馨提示:為規(guī)避購買風險,建議您在購買產(chǎn)品前務必確認供應商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

    其他推薦產(chǎn)品

    Heidelberg DWL 8000 高級大型2D3D直寫機
    Heidelberg D
    電議
    德國Nanoscribe全新微納3D打印機Photonic Professional GT2
    德國Nanoscribe
    電議
    德國Nanoscribe雙光子微納3D打印機雙光子飛秒激光直寫儀
    德國Nanoscribe
    電議
    美國Novascan PSD/PSDP系列紫外臭氧清洗機
    美國Novascan P
    電議
    日本SEN 紫外UV清洗機 PM20036C
    日本SEN 紫外UV清洗
    電議
    UV臭氧清洗改質(zhì)機LXY-PL110X16
    UV臭氧清洗改質(zhì)機LXY
    電議
    藍星宇UV清洗改質(zhì)機LXY-SUV110X6
    藍星宇UV清洗改質(zhì)機LX
    電議
    您是不是在找:
    其他望遠鏡

    首頁| 關于我們| 聯(lián)系我們| 友情鏈接| 廣告服務| 會員服務| 付款方式| 意見反饋| 法律聲明| 服務條款